(熱収支の低い製造工程に向けて)イオン注入によって原子を活性化する Activation of Atoms by Ion Implantations: For Manufacturing with Low Heat-Balance (文責: 学部2年生RO)

ほぼ室温で高パフォーマンスの半導体デバイスを製造することが可能になる。太陽光発電の高効率化の発展に貢献 In the future, fabrication semiconductor devices are realized at room temperature or low temperature even keeping present quality. That would contribute to developing high efficiency of solar power generation, etc.